有關電子回路基板製造

介紹運用於電子回路基板之製造流程的光產品。

電子回路基板製造関連

曝光用UV燈在紫外線波長範圍中亦可以有效地活用6/405/365nm 、長壽命且具有放射強度的高亮度燈。	鹵素加熱燈利用光與熱的燈、富有靈活性及控制性、且具備效率高、潔淨、以及小型輕量等其他熱源沒有的優點。
準分子(Excimer)燈/準分子(Excimer)光照射裝置有效放射波長180nm以下的真空紫外光(VUV) 。	點狀UV照射裝置Spot Cure系列內建UV燈，方便使用的點狀UV照射裝置。配合生產線或工作之鏡頭與裝置等的選購配備齊全。
曝光裝置介紹投影曝光方式（單面整體曝光・雙面同時曝光‧步進與重複）、及PROXIMITY曝光方式等各種曝光裝置。	外觀檢查裝置介紹進行晶圓或光罩外觀檢查、軟性基板等回路檢查、以及玻璃面檢查的外觀檢查裝置。
光測量儀器介紹身為光源製造廠，USHIO以用戶立場自行開發出「正確且方便使用」的光量與照度測量儀器。

曝光用UV燈在紫外線波長範圍中亦可以有效地活用6/405/365nm 、長壽命且具有放射強度的高亮度燈。	鹵素加熱燈利用光與熱的燈、富有靈活性及控制性、且具備效率高、潔淨、以及小型輕量等其他熱源沒有的優點。
準分子(Excimer)燈/準分子(Excimer)光照射裝置有效放射波長180nm以下的真空紫外光(VUV) 。	點狀UV照射裝置Spot Cure系列內建UV燈，方便使用的點狀UV照射裝置。配合生產線或工作之鏡頭與裝置等的選購配備齊全。
曝光裝置介紹投影曝光方式（單面整體曝光・雙面同時曝光‧步進與重複）、及PROXIMITY曝光方式等各種曝光裝置。	外觀檢查裝置介紹進行晶圓或光罩外觀檢查、軟性基板等回路檢查、以及玻璃面檢查的外觀檢查裝置。
光測量儀器介紹身為光源製造廠，USHIO以用戶立場自行開發出「正確且方便使用」的光量與照度測量儀器。