有關FPD製造

介紹可運用在液晶或電漿等平面顯示器之製造流程的光產品。

FPD製造関連

曝光用UV燈在紫外線波長範圍中，亦可有效運用436／405／365nm ，具有長效型穩定放射強度的高亮度燈具。	鹵素加熱燈管利用光與熱的燈，富有靈活性及控制性，且具備高效率、潔淨、以及小型輕量等其他熱源沒有的優點。
準分子(EXCIMER)燈/準分子(EXCIMER)光照射裝置有效放射波長為180nm以下的真空紫外光(VUV)
點狀UV照射裝置Spot Cure系列內建UV燈,方便使用的點狀UV照射裝置。配合生產線或工作之鏡片與裝置等的選購配備齊全。	紫外線瞬間乾燥裝置UNI CURE SYSTEM 可達成高效能,簡潔,及低溫處理的UV硬化與乾燥裝置。可配合目的之燈具,UV強度,及照射範圍等應用組合。
紫外線光阻劑硬化/CHARGE ERASE裝置UNIHARD 可應用在提升乾蝕刻時的耐電漿性,離子注入時的阻劑脫氣與燒製,電荷消除,疲乏消除,以及Low-k Cure等各種用途。	曝光裝置介紹投影曝光方式（單面整體曝光・雙面同時曝光・步進與重複）、及PROXIMITY曝光方式等各種曝光裝置。
外觀檢查裝置介紹晶圓或光照外觀檢查,軟性基板等回路檢查,以及玻璃面檢查的外觀檢查裝置。	光測量儀器介紹身為光源製造商的USHIO,站在用戶立場自行開發出「正確且方便使用」的光量與照度測量儀器。

曝光用UV燈在紫外線波長範圍中，亦可有效運用436／405／365nm ，具有長效型穩定放射強度的高亮度燈具。	鹵素加熱燈管利用光與熱的燈，富有靈活性及控制性，且具備高效率、潔淨、以及小型輕量等其他熱源沒有的優點。
準分子(EXCIMER)燈/準分子(EXCIMER)光照射裝置有效放射波長為180nm以下的真空紫外光(VUV)
點狀UV照射裝置Spot Cure系列內建UV燈,方便使用的點狀UV照射裝置。配合生產線或工作之鏡片與裝置等的選購配備齊全。	紫外線瞬間乾燥裝置UNI CURE SYSTEM 可達成高效能,簡潔,及低溫處理的UV硬化與乾燥裝置。可配合目的之燈具,UV強度,及照射範圍等應用組合。
紫外線光阻劑硬化/CHARGE ERASE裝置UNIHARD 可應用在提升乾蝕刻時的耐電漿性,離子注入時的阻劑脫氣與燒製,電荷消除,疲乏消除,以及Low-k Cure等各種用途。	曝光裝置介紹投影曝光方式（單面整體曝光・雙面同時曝光・步進與重複）、及PROXIMITY曝光方式等各種曝光裝置。
外觀檢查裝置介紹晶圓或光照外觀檢查,軟性基板等回路檢查,以及玻璃面檢查的外觀檢查裝置。	光測量儀器介紹身為光源製造商的USHIO,站在用戶立場自行開發出「正確且方便使用」的光量與照度測量儀器。