EUV(極端紫外光)
「EUV」（Extreme Ultraviolet 極端紫外光源）是美日歐新開發，並引起大眾注意的新一代半導體曝光用光源。。
在日本研究開發國家計畫的「EUVA」方面、GIGAPHOTON 一同參與推動EUV的開發。此外，具有歐洲頂級研究開發力的德國XTREME 納入集團，透過日歐堅強的合作開發體制，以及早期達成事業化為目標加速開發。
※有關EUV的資訊，請參閱GIGAPHOTON Inc.或是XTREME technologies GmbH （英文）。
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開發產品
2003年 DPP光源 XTS13-15
- 發光點輸出35W/2π sr
- 集光點輸出0.5W
- 集光鏡壽命1億脈衝以上
2005年附集光鏡的DPP光源XTS13-75-IF
- 發光點輸出75W/2π sr
- 集光點輸出0.5W
- 集光鏡壽命5億脈衝以上
2005年 附集光鏡 XTS13-150-IF
- 發光點輸出150W/2π sr
- 集光點輸出10W
測量儀器（核融合校正標準裝備）
- 能源監測儀器
- 集光點能源
- INBAND照相機與強度分布計測
- 光譜
- 光譜過濾器
洽詢
台北 TEL: (02)2322-4103/ FAX: (02)2394-4140
GIGAPHOTON Inc.(日本總公司）
優志旺股份有限公司 GIGA Division
TEL: 03-555-8846 / FAX: 03-555-8813
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