多用途平均照射裝置/(Lamphouse)「Multi-light」

配備USHIO的超高壓UV燈，此燈即使紫外線波長範圍中，仍可有效活用三條光線(365nm、405nm、436nm)是具有長效穩定之照射強度的高亮點光源。

使用兩片穿透波長光，僅反射必要紫外線的冷鏡(Cold Mirror)，因此可以抑制被照射物的溫度上升。

配備高性能FLYEYE鏡頭，不降低光利用效率，可平均照射到照射面。

除了「基本構造組合＋附屬光學裝置＋快門控制裝置」的基本型態之外，加上具有達到照射強度、波長、及照射口徑等光學條件的各種搭配組合。無限寬廣的組合 。

可依需求選擇II型(365nm)、及IG型(365・405・436nm3種光線)2種光學系統。

有「250～25kW燈屋」「以高照度化、高平行度化、及波長選擇等提升光學性能」「省空間化等與依據規劃的光學系統」「以DeeP UV燈等超高壓UV燈以外為光源的燈屋」等，可配合顧客需求。 

作為使用鏡頭之均勻照射光源，或使作為使用光纖之點光源，回路圖案燒附、晶圓全面曝光、及UV接著固化等，可應用於各種用途。

• 半導體/半導体燒付、半導體光罩檢查、晶圓周圍曝光、晶圓全面曝光、晶圓瑕疵檢查、及液晶TFT/CF燒付等
• 精密機器/CD光擷取用鏡頭接著、磁頭接著、光纖塗裝、電子零件接著、水晶振盪曝光、TAB曝光、及FPC曝光大面積投影曝光裝置等。
• 其他/液晶校正器、MEMS曝光、各種光學實驗等

有使用產品的實驗與測試機可供使用。測試後可以直接購買。
※部分使用目的與用途等無法配合需求，敬請見諒。

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