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曝光裝置

介紹投影曝光方式(單面一次曝光、雙面同時曝光、以及步進式)、及PROXIMITY曝光方式等各種曝光裝置。


曝光裝置

依照基板伸縮增建,達到多層類型的高精確度重疊。


最適合Super-connect領域之設計規格(約10μmL/S)的步進機(Rough Stepper)。


對FINE PITCH TAB與COF TAPE基板,執行高精確度曝光的彈性印刷回路基板用投影曝光裝置。


具有適用於解析力3umL/S~20umL/S、及曝光區域φ100~300mm 的各種類型(單面/雙面、全部/部分等)。


配備適用於20mm~最大φ8英吋之晶圓、具有最小5微米(MICRON)L/S規格之等倍投影曝光光學系統的曝光裝置。