高密度印刷電路基板用步進及重複投影曝光裝置 「UX-5」

針對每次的曝光區域，執行高精確度校正。此外，採用依據類型伸縮最大0.1％自動變焦的「自動測量功能」修正投影倍率，大幅降低基板收縮造成的校正偏差。

採用USHIO專利技術「ＴＴＬ非曝光方式波長校正」，在觀察光罩記號時，曝光不會達到基板校正記號。此外，可直接觀察工作記號，不會因遮罩造成亮度降低，因此能夠由鮮明的記號實施高精確度的校正。

具有適用於儲存類型之「類型比對功能」，無需專用的校正記號，即可執行各種接線類型的校正。

配備USHIO的投影鏡頭「UPL系列」、達到高解析能力。適用於10μ線/空間之設計規格的正式量產。

即使焦點深度較深（±50～100μｍ）造成基板的高低差異或彎曲、或是鬆弛造成的影像偏移，亦能得到與正確焦點相同的類型剖面圖。尤其是厚膜的乾膠膜，或是阻劑曝光時更為有效。

利用精密空氣軸承消除摩擦、及透過面馬達構造達到活動部的輕量化與高剛性化，實現高速的步進及重複動作。此外，表面檯實施雷射干擾計的回饋控制，同時達到高速動作與高位置決定精確度。

採取光罩與工作非接觸的投影曝光方式，因此不會因為阻劑等的附著造成遮罩損害。非但可防止接線類型缺損，光罩使用可達半永久，降低運轉成本。此外，光罩無須清潔保養，與密合型曝光裝置機械相較，還能提升設備運轉率。

可實施曝光評估等各種測試。詳情請洽詢。無法適用於部分要求內容，敬請見諒。

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