電子零件用各種曝光裝置

運用USHIO的光源・照明・光學・校正及搬運技術，實現高性能、高生產性、及低成本的電子零件用曝光裝置。
具有適用於解析力3umL/S～20umL/S、及曝光區域φ100～300mm的各種類型（單面/雙面、全部/部分等）。

特徴

採用光罩與工作件非接觸的「投影曝光方式」。遮罩是半永久使用，因此降低運轉成本、防止接線缺陷、並提升良品率。

應用影像處理技術，以依回路比對方式的獨特校正機構。無須專用的校正記號，可依各種工作條件執行高精確度校正。

透過焦點深度較深（±50～100μm）的投影鏡片，即使是有高低差異的基板或厚膜電阻，亦能執行銳利的類型描繪之曝光。

矽晶圓、印刷基本、滾筒及玻璃基板，適用工作與應用軟體的搬運系統。

可實施曝光評估等各種測試。詳情請洽詢。

※無法適用部分要求內容，敬請見諒。

台北　TEL: (02)2322-4103/ FAX: (02)2394-4140

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