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有關半導體製造

介紹應用於電子回路基板之製造流程的光產品。


有關半導體製造

在紫外線波長範圍中,亦可有效運用436/405/365nm ,具有長效型穩定放射強度的高亮度燈具。


利用光與熱的燈,富有靈活性及控制性,且具備高效率、潔淨、以及小型輕量等其他熱源沒有的優點。


在數毫秒的短時間內放射大光量的脈衝光。僅有照射物表面溫度上升,因此可作到熱感應預算較低的處理。


有效放射波長為180nm以下的真空紫外光(VUV) 。


放射出波長13nm的極端紫外線的光源。繼KrF/ArF雷射之後,持續開發出半導體曝光用光源。



內建UV燈,方便使用的點狀UV照射裝置。配合生產線或工件之鏡片與裝置等的選購配備齊全。


可達成高效能,簡潔,及低溫處理的UV硬化與乾燥裝置。可配合目的之燈具,UV強度,及照射範圍等應用組合。

可應用在提升乾蝕刻時的耐電漿性,離子注入時的阻劑脫劑與燒製,電荷消除,疲乏消除,以及Low-k Cure等各種用途。


沿著晶圓外圍及晶圓形狀,以及依用途選擇「步進的」「全面的」UV照這裝置。


介紹投影曝光裝置投影露光方式(單面整體曝光・雙面同時曝光・步進與重複)、及PROXIMITY曝光方式等各種曝光裝置。


介紹進行晶圓或光罩外觀檢查,軟性基板等回路檢查,以及玻璃面檢查的外觀檢查裝置。


介紹身為光源製造商,USHIO以用戶立場自行開發出「正確且方便使用」的光量與照度測量儀器。