紫外線光阻劑硬化/CHARGE ERASE裝置「UNIHARD」

初期照度是650mw/cm2以上（220～320nm）、且照度均勻度保證在±10%。

φ12吋用裝置、採用裝載接口(依據SEMI) 的EFEM、以及搬運系統 採用無塵快速的2Finger搬運機器人、以達到高Throughput。

φ12吋用裝置採用Windows NT PC，達到極佳的操作性。亦符合GEM300規定。

燈管更換時無須調整，並降低裝置的停機時間。

使用照度一定模式、並累積計算曝光模式、達到製程的穩定化與一致化。

對應φ6吋用裝置（可與φ5吋以下共用）、φ8吋用裝置（ 可與φ6吋以下共用）、以及φ12吋專用裝置等所有工具匣。此外，亦備有準分子(Excimer)燈的φ8吋用裝置。

• 提升乾蝕時的耐電漿性
• 離子注入時的阻劑脫氣及燒入
• 電荷消除與消除疲乏
• Low-k Cure
• 薄膜磁頭之層間絕緣膜形成
• 化合物半導體的Lift-Off工程
• 表面改質
• CCD與CMOS影像儀的去色(bleaching)等

可使用產品進行各種測試'。詳細內容請洽詢。
※可能無法滿足部份要求內容、敬請見諒。

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