

Halogen L amp Heater的「非接觸式及快速升降溫」裝置,為燒結爐、CVD等熱處理裝置上的標準熱源配備。

單晶矽、多晶矽、非晶矽、玻璃、薄膜

從100°C低溫到1200°C高溫皆可對應,對應溫度範圍廣泛。被認定為各種熱處理製程的標準熱源,應用相當廣泛。

矽、SiC(碳化矽)、SOI (矽晶絕緣體)、化合物、水、化學液體

具有「快速升降溫及非接觸式加熱」的特性,也可以配合基板大型化的趨勢,最長可達2.5米,實現長尺寸化。

玻璃、彩色濾光片

在金屬材料的壓延、水‧溶劑乾燥工程的熱處理方面,能以潔淨的加熱源替代以往所使用的熱風加熱、高頻加熱、瓦斯爐加熱等加熱源。

不銹鋼、鋁、鐵、銅、鎂

要加熱像瓶胚那樣具有穿透性的材質時,利用鹵素加熱器可有效達到表裡平均受光加熱的效果。

寶特瓶(PET)、瓶胚(perform)、PC(聚碳酸脂塑料)、環氧樹脂(epoxy) 、PPT

USHIO很早就開始致力於研究光為「熱源」的可能性,在所謂新素材‧宇宙開發等最先進科學的領域上,也廣泛提出「光加熱」的技術。
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