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Halogen Heater是可以實現其他熱源所無法達到「快速升降溫及非接觸式加熱」效果的熱源,而且可以因應從100°C低溫區域到1200°C高溫區域的寬廣溫度範圍。
在現今的半導體製程中,氧化膜的形成、淺接面的形成、矽化物的形成或CVD‧濺鍍裝置的熱源,另外還有水‧化學液體的保溫等等,Halogen Heater都作為各熱處理製程的標準熱源而被廣泛的使用。
同時也有製造各種磊晶矽用Heater。
各種矽晶圓、SiC(碳化矽)、SOI (矽晶絕緣體)、化合物
以熱容量小的鎢絲燈當作發熱體,可以達到非接觸式快速升降溫的可能。
在加熱矽晶圓時,能以每秒250°C以上急速升溫。在減低熱能需求或薄膜形成、淺接面層形成上是不可或缺的熱源。
另外,與平常電力消耗的電阻加熱不同,快速啟動的性能,可以在需要時啟動、不需要時關閉,對降低生產成本、提高生產節奏等降低製造成本方面有很大的貢獻。
以光學設計的加熱器設備及專用的PID控制系統,無論從低溫到高溫範圍,都能夠實現其他熱源所無法達成的優越控溫效果。
再加上Halogen Lamp Heater的非接觸式加熱方式,不僅可以達到潔淨的加熱環境,也能給予裝置設計極高的自由度。
Halogen Heater雖然體積小、重量輕,但輸出能量卻很大,因此也能安裝在狹窄的場所。同時其非接觸式加熱的特點,能保持潔淨的環境,無論在大氣中或真空狀態下,加熱環境皆不受限制。光加熱並不會釋放出氣體,所以對於降低二氧化碳的排放也很有幫助。