
Halogen Heater是可以實現其他熱源所無法達到「快速升降溫及非接觸式加熱」效果的熱源,而且可以因應從100°C低溫區域到1200°C高溫區域的寬廣溫度範圍。
在現今的半導體製程中,氧化膜的形成、淺接面的形成、矽化物的形成或CVD‧濺鍍裝置的熱源,另外還有水‧化學液體的保溫等等,Halogen Heater都作為各熱處理製程的標準熱源而被廣泛的使用。
同時也有製造各種磊晶矽用Heater。

RTP(快速高溫製成) / RTA(快速熱退火)
- 使用Halogen Heater的RTP,在降低熱能需求、薄膜形成等熱處理製程方面,從研究開發到量產都被廣泛地使用,讓製程更加擴大。
磊晶矽
- 對於磊晶矽成長所必須1200°C的高溫熱處理製程,Halogen Lamp Heater是最適用的。
- 而且使用壽命長,可以降低營運成本,對降低製造成本上有很大的貢獻。
CVD / PVC
- 可以瞬間點燈的Halogen Lamp Heater,不需要像加熱板需要長時間的等待使溫度穩定。而它潔淨的非接觸式加熱方式,也無須擔心污染的問題。
洗淨‧乾燥
- Halogen Lamp Heater的高速反應性能,可精密地控制純水或化學藥劑的溫度。
- 而且,Halogen Lamp Heater是以高純度的石英所製成,不會產生雜質的情況。
- 以Halogen Lamp Heater的非接觸式加熱方式,可以讓洗淨後的晶圓在潔淨的狀態下進行乾燥。

各種矽晶圓、SiC(碳化矽)、SOI (矽晶絕緣體)、化合物

高效率的能源來源
可將投入電力的85%以上轉換成紅外線放射,是高效率的燈光式放射加熱源。
控制減少電力消耗可降低營運成本。
優越的升降溫性能
以熱容量小的鎢絲燈當作發熱體,可以達到非接觸式快速升降溫的可能。
在加熱矽晶圓時,能以每秒250°C以上急速升溫。在減低熱能需求或薄膜形成、淺接面層形成上是不可或缺的熱源。
另外,與平常電力消耗的電阻加熱不同,快速啟動的性能,可以在需要時啟動、不需要時關閉,對降低生產成本、提高生產節奏等降低製造成本方面有很大的貢獻。
高控制性能
以光學設計的加熱器設備及專用的PID控制系統,無論從低溫到高溫範圍,都能夠實現其他熱源所無法達成的優越控溫效果。
再加上Halogen Lamp Heater的非接觸式加熱方式,不僅可以達到潔淨的加熱環境,也能給予裝置設計極高的自由度。
小型‧潔淨的熱源
Halogen Heater雖然體積小、重量輕,但輸出能量卻很大,因此也能安裝在狹窄的場所。同時其非接觸式加熱的特點,能保持潔淨的環境,無論在大氣中或真空狀態下,加熱環境皆不受限制。光加熱並不會釋放出氣體,所以對於降低二氧化碳的排放也很有幫助。
長效型且維持固定的能量放射
因為鹵素週期的作用,可做到其他Halogen Lamp Heater所沒有的長效型設計。同時因為它不會像其他熱源會隨時間而變化,因此即使達到燈管壽命末期也是幾乎能維持著一定的放射能量。
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