SUPER CONNECT用步進及重複曝光裝置 UX-7

與傳統步進及接近曝光裝置相較之下，可大幅減少二氧化碳，是最適合Super Connect範圍設計規則（約10μmL/S）之步進及重複投影曝光方式的初步進機(Rough Stepper)。

特徴

對最大φ300㎜晶圓，以１次曝光最大口徑55㎜的方式，實施步進及重複曝光。配備專用設計的高輸出燈，實現高throughput。

依據阻劑的感度波長、膜厚或基板高低差異等，從各種鏡片搭配組合中，選擇最佳鏡片。

解析力3μｍL/S鏡片的焦點深度±10μｍ，5μｍL/S鏡片具有焦點深度±40μｍ，適用於厚膜及基板的高低差異與彎曲。

配備雷射干擾計的檯子，保證重疊精確度±1.5μｍ。

配備可將一片遮罩分割成四個區域的「遮罩滑動機構與遮光板」。一片遮罩可以遮住數層。

可實施曝光評估等各種測試。詳情請洽詢。

※無法適用於部分要求內容，敬請見諒。

台北　TEL: (02)2322-4103/ FAX: (02)2394-4140

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