投影曝光技術
採用開發高輸出燈與無風險遮罩專用的投影曝光，以達到符合基板收縮、組裝及多層類型之高精確度重合的USHIO投影曝光裝置。
介紹適用於晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、滾壓基板、印刷基板等各種基板之USHIO大面積投影曝光的主要技術。
光源技術
適於投影曝光裝置之專用設計
身為光源製造廠的USHIO，對以半導體與液晶步進機為首之曝光裝置，提供高電源、高穩定的紫外線光源（UV燈）。
大面積投影曝光裝置「UX系列」再開發曝光裝置的同時，開始進行光源的開發，並採用可在所有的曝光裝置上，完全發揮光學類特性的專用設計光源。
照明光學技術
轉變為理想的「光源」
有效集中燈具放射的光源，可以高度均勻、高平行之方式照射遮罩的照明光學系統。於各個鏡面實施特殊塗裝，可執行曝光波長的選擇與熱線的阻隔。
USHIO的照明光學系統技術，源自於1960年開始的SPACE CHAMBER用太陽能模擬器的開發，以高度的光學技術為起始。之後，對許多半導體與液晶用曝光裝置提供照明光學系統，並提升曝光裝置用光學系統的完成率。
「UX系列」的照明光學類，充分運用過去的專業知識與實績，備有燈光輸出或曝光波長相關的各種應用方案等，以提供適合製程的理想平行光投影光學系統。
投影光學技術
投影鏡頭
USHIO獨特的投影鏡頭是具有曝光範圍200mm、及解析度5μmL/S規格的低扭曲鏡頭的旗艦機種。最適用於多樣化需求的光學設計，在維持較深的焦點深度下，開發出各種曝光面積與解析度之投影鏡頭，並推出系列產品。
校正技術
對準工件位置
高精確度位置對準
USHIO的大面積投影曝光裝置，採用獨特的「TTL非曝光波長校正」之自動校正功能。個別檢測出遮罩與工作的校正記號，以分別經由影像處理固定在XY座標軸上執行對準位置的方式，具備如下的特徵。
工件之位置調整
位置調整目視確認性的例子
TTL非曝光波長校正
- 整體塗鉻的開口部較小遮罩，亦可經由個別觀察遮罩與工件，輕易發現工作記號。
- 隔著遮罩觀察並非降低亮度，而是可以清楚的記號執行校正。
- 即使是在下述影響下亮度較低的記號，亦可透過照明方法的選擇(亮視野/暗視野照明)與波長選擇，提高目視確認性的效果。
類型比對方式
- 即使無專用校正記號，亦可以影像辨識的方式，執行記錄各種配線圖案的校正。
- 可配合校正記號，選擇各種自動校正運算規則。(參考法、重心檢測)
搬運技術
符合各種工件應用軟體
從晶圓、彈性基板、印刷基板等開始，備有適於各種工件之高精確度搬運系統。
此外，活用廣泛曝光範圍之全面曝光，更適用於面積工件之步進&重複曝光等，符合各種曝光需求的曝光台還支援有效率、穩定的處理。
