OPTICAL LAB(光學研究室)
從真空紫外線到紅外線所有波長均可照射的光照射實驗設備。
共同實驗與測試機的介紹
備有適於正在檢討共同實驗、開發、及供顧客採購的共同實驗裝置之備用與測試機。可租借與共同研究與實驗或是樣品有關的實驗與測試機，必須是使用UV燈、閃光燈、EB（電子光束）、VUV光源（EXCIMER）、及鹵素加熱器等各種光源。
※詳情請填寫洽詢表或電話洽詢。
※非適用所有實驗內容，或是測試機使用目的與用途等，敬請見諒。
共同實驗
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測試機
 依目的組合規格化零件之照射裝置。 |
 有效放射波長為180nm以下的真空紫外光(VUV) |
 活用以太陽能模擬器開發等培養出的光學技術，達到小型化、高性能化及低價格化之多目的平均照射裝置。。 |
 內建UV燈，方便使用的點狀UV照射裝置。備有配合線條，工作之鏡片，或裝置等齊全的選配配備。 |
 最適合Super-connec領域之設計規則（約10μｍＬ/S）的ROUGH STEPPER。 |
 具有適用於解析力3umL/S～20umL/S、曝光區域φ100～300mm的各種類型（單面/雙面、全部/部分等）。 |
 可應用在提升乾蝕刻時的耐電漿性、離子注入時的阻劑脫氣,燒製、電荷消除、疲乏消除、及 Low-k Cure等各種用途。 |
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 從測量分光能源絕對值開始，可以簡單操作來完成各種測量的簡易式分光照度計。 |
 除平面外、連±R50mm曲面亦可瞬間測量的分光反射率計。 |
 照光裝置、UV固化、及洗淨與殺菌裝置等，適用各種照度管理的簡易型光測量儀。 |
 大範圍放射600nm - 740nm光線，並在630nm與670nm時具有波長峰值得光治療器。 |
 可延著基板（3D構造）的凹凸實施阻劑塗裝，是傳統旋轉塗裝器無法做到的。 |
 無需在構成MICRO TAS基板的玻璃與PDMS(矽膠)使用接著劑，以真空紫外光完成瞬間接著。 |
